Infraštruktúra

Technológie prípravy a výroby materiálov

SPS HP D10-SD  Spark Plasma Sintering

Laboratórne zariadenie je určené pre nový, efektívny a inovatívny výskum, vývoj a produkciu nano/mikro kompozitných keramických a kovových materiálov pripravených z práškov metódou spekania za prítomnosti plazmy – Spark Plasma Sintering. Najnovším trendom sú tzv. funkčne gradované materiály (FGM) – vrstvy s rôznymi špecifickými vlastnosťami, ako je odolnosť proti oderu, chemická odolnosť, špecifické izolačné vlastnosti, použitie za vyšších prevádzkových teplôt a pod.

  • Hydraulický lis so silou 10 t [5 – 100 kN]
  • Max. teplota 2200 °C, rýchlosť ohrevu 5 – 1000 K/min.
  • Zdroj jednosmerného pulzovateľného prúdu až 5500 A pri napätí 7,2 V
  • Max. nepretržitý výkon 37 kW
  • Trvanie impulzu 1…255 ms, trvanie prestávky 0…255 ms
  • Procesné plyny – argón, dusík (max. 5 bar)
  • Vákuum v studenej peci 5 x 10-2 mbar

 

Melt Spinner SC – Rýchle ochladzovanie tavenín

Laboratórne zariadenie určené pre prípravu amorfných/ polykryštalických zliatin metódou rýchleho ochladzovania taveniny.

  • Rýchlosť ochladzovania taveniny až 105 oC/s
  • Vysokovákuový systém 2.10-5 mbar
  • Indukčné tavenie 5-10 g vsádzok
  • Teplota tavenia do 1800 oC
  • Meranie teploty pyrometrom
  • Melt spinning – vystrekovanie taveniny na povrch Cu valca,Ø200 mm, otáčajúceho sa rýchlosťou až 4200 ot./min
  • Pretlakové odlievanie taveniny do chladenej Cu formy – ingoty Ø3 mm a Ø5 mm, l = 200 mm

 

Oblúková taviaca pec MAM-1

  •  Malá oblúková taviaca pec Mini Arc Melter MAM-1 pre oblúkové tavenie 5-20 g vsádzok
  •  Teplota tavenia až 3500 °C
  •  Tavenie vsádzok do tvaru bochníkov
  •  Odlievanie taveniny pod tlakom chladenej Cu formy, ingoty ø 3 mm, l = 35 mm

 

NanospiderTM NS LAB

Zariadenie, ktoré poskytuje možnosť výroby kontinuálnych náhodných alebo usporiadaných  vlákenných vrstiev s rôznou plošnou hustotou a rôznymi priemermi vlákien. Umožňuje zvláknenie širokého spektra materiálov (rôznych druhov polymérov, vrátane biomateriálov) s použitím rôznych podkladových substrátov. Polymérne mikro/nanovlákna sú používané ako prekurzory keramických mikro/nanovlákien

  • Priemery: 50 – 700 nm (±30 %)
  • Dĺžka: významná
  • Vlákna: kontinuálne, uniformné
  • Plošná hustota vrstvy: od 0,03 g/m²
  • Hrúbka vrstvy: 1 – 500 µm
  • Efektívna šírka vrstvy: 250 – 350 mm

 

Attritor 01 SERIES MODELS, 01-HDDM

  •  Vysokoenergetické mechanické mletie práškov a práškových vsádzok (do 1,4 litra) za sucha alebo za mokra
  •  Mletie v ochrannej (N2, Ar), oxidačnej (O2) alebo v redukčnej atmosfére (H2)
  •  Rýchlosťotáčania vretena do 650 ot./min.

 

Attritor HDDP 01

  • Vysokoenergetické mechanické mletie kovových aj keramických práškov a práškových vsádzok za sucha alebo za mokra
  • Prietokové vodné chladenie mlecej nádoby
  • Elektronické riadenie rýchlosti otáčania vretena regulovateľná max. do 4200 ot./min. pre mleciu nádobu veľkosti 750 cm³

 

Vibračný guľový mlyn Lab Wizz 320

Zariadenie na vysokoenergetické mletie, mechanickú úpravu veľkosti častíc, intenzívne miešanie, mechanické legovanie a mechanochemické syntézy.

  • Kapacita mletia do 160 ml
  • 2 mlecie pozície
  • Frekvencia vibrácií 1 – 30 s-1
  • Časovač 0 – 99 min

 

LabRAM Vacuum – Rezonančný akustický mixér

Rezonančné akustické miešanie je technológia využívajúca nízkofrekvenčnú akustickú energiu s vysokou intenzitou na miešanie práškových, kvapalných materiálov. Miešanie je neinvazívne, tvar a veľkosť prachových častíc nie je ovplyvnená miešaním. Miešaná zmes nie je kontaminovaná oterom materiálu miešacích elementov. Výhodou technológie je vysoká intenzita miešania, krátke doby miešania a vysoká reprodukovateľnosť procesu.

  • Kapacita miešania do 500 g
  • Akcelerácia miešaného materiálu 100 G
  • Možnosť miešania vo vákuu 866 hPa
  • Nastavenie intenzity akustickej energie
  • Digitálny časovač

 

Lisovacie zariadenie

 LabTest 5.600 ZL – zariadenie na kompaktizáciu práškových materiálov

Lisovacie zariadenie

Zariadenie je určené na tvarovanie a kompaktizáciu práškových materiálov pôsobením tlaku v uzavretom lisovacom nástroji.

  • Presný hydraulický lis, maximálna sila 600 kN
  • Plynule regulovateľný posun 0,05 – 100 mm/min.
  • Presnosť riadenia rýchlosti posuvu 0,5 %
  • Rozlíšenie polohy priečnika 10 mikrometrov
  • Snímače sily 3-600 kN a 0,3-60 kN
  • Snímač polohy a posuvu razníka s presnosťou 0,1 mikrometra
  • Temperovaná komora na lisovanie do teploty 300 °C
  • Digitálna meracia a riadiaca elektronika na riadenie a vyhodnocovanie lisovacieho procesu

 

Mikrovlnné spekacie zariadenia

Zariadenie je určené na spekanie a syntézu materiálov rôzneho druhu ako napríklad ferity, elektrokeramika, konštrukčná keramika, kompozity s kovovou, alebo keramickou matricou, práškové kovy a ďalšie tvarovaním a lisovaním pripravené materiály. Najväčšou výhodou mikrovlného ohrevu je skrátenie času potrebného na spekanie, úspora procesných plynov a energie. Mikrovlné spekanie je intenzifikačná kompaktizačná technológia s významnými ekonomickými a ekologickými aspektami.

Hamilab V3000 – multimódové spekacie zariatenie

Mikromatel - mikrovlnne spekani - Hamilab V300

  • Výkon zdroja mikrovlného žiarenia 0,2 – 2,85 kW kontinuálne riadený automaticky
  • Maximálna teplota v procesnej komore 1600 °C
  • Meranie teploty IR pyrometrom
  • Pracovná atmosféra Ar, N, He, suchý vzduch
  • Rotačný držiak vzoriek , rotácia 5 ot./min.
  • Pracovná komora priemer 500 mm, výška 560 mm, plášť chladený vodou

 

Jednomódové spekacie zariadenie s impedančným analyzátorom

Mikromatel - mikrovlnne spekanie - mw impedancny analyzator

  • Mikrovlný ohrev vzorky v kremíkovej trubici
  • Priemer komory 28 mm, výška 80 mm
  • Teplota do 1250 °C
  • Meranie teploty pyrometrom
  • Meranie a analýza pohlteného a odrazeného mikrovlného žiarenia v reálnom čase
  • Vizuálna kontrola vzorky v priebehu procesu
  • Manuálne riadenie intenzity pohlteného mikrovlného žiarenia vo vzorke
  • Ochranná pracovná atmosféra Ar, N, vzduch
  • Meranie a analýza teplotného profilu vzorky termokamerou v reálnom čase s možnosťou záznamu

 

CARBOLITE – Trubicová spekacia pec

  • Elektrická pec s SiC výhrevným telesom do Tmax. = 1500 °C
  • Spekanie kovových aj nekovových práškov
  • Spekanie vo vákuu (do 8 mbar), inertnej (N2, Ar)aj redukčnej atmosfére (H2, H2-N2)
  • Priemer trubice 90 mm
  • Dĺžka zóny rovnomerného ohrevu 450 mm
  • PID regulátor (8 segmentov s vlastnou teplotnou rampou s vlastným časovačom)
  • Monitorovanie kvality atmosféry na vstupe do pece, analýza obsahu O2 (0-10 000 ppm), meranie RB (-100 – +20 °C)
  • Kontinuálne monitorovanie aktívnych zložiek atmosféry počas celého cyklu spekania NDIR analyzátor  CO2 (0-5000 ppm), CO (0-3 % obj.) a O2 (0-10000 ppm)

 

Vákuová sušiareň Binder VD 53

  • Zásuvné rošty pre rýchly prenos tepla z vyhrievaných stien komory cez rošty na vzorky a homogénne rozloženie teploty v komore
  • Zavzdušňovací ventil a možnosť privedenia vzduchu alebo inertného plynu
  • Tlak 0.01 mbar
  • Regulovateľná teplota do 200 °C

 

Rukavicové boxy

Zariadenie je určené na manipuláciu s nanopráškami, na prácu s organickými a anorganickými chemikáliami a na prípravu a manipuláciu s materiálmi v ochrannej atmosfére.

Jacomex G (save)-T2+2

  • Rukavicový box s nastaviteľným negatívnym tlakom do 10 mbar
  • Kapacita prúdenia vzduchu 50 m³/hod.
  • Vnútorné a vonkajšie HEPA filtre
  • Konštrukcia z nerezovej ocele

 

Terra Universal S100

  • Rukavicový box pracujúci s pozitívnym tlakom inertného plynu max 7 bar
  • Prietok inertného plynu 0,95 – 9,45  l/min.

 

Povlakovacie PVD zariadenie

Zariadenia sú vybavené najnovšími iPVD technológiami na prípravu tvrdých, supertvrdých a prípadne aj funkčnými povlakov na báze jedno- a viackomponentných systémov, vrátane nanokompozitných, multivrstvových a gradientných povlakov, pre strojárske a iné aplikácie na báze HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) – magnetrónového naprašovania vysokoenergetickými impulzami a na báze HiTUS (High Target Utilization Sputtering) – naprašovania s vysokou využiteľnosťou terča a nezávislým zdrojom plazmy. PVD technológie sa vyznačujú extrémne vysokým stupňom ionizácie rozprašovaného materiálu, čo umožňuje lepšiu kontrolu výsledných vlastností povlakov, najmä hustoty a následne aj tvrdosti, oteruvzdornosti a adhézie povlaku k podložke. HiTUS umožňuje nanášanie povlakov na plastové fólie a prípadne aj vysokotvrdých povlakov na ložiskovú oceľ pri teplote pod 200 oC.

 

Cryofox Discovery 500

  • PVD zariadenie s HiPIMS a DCMS zdrojmi po technickom zhodnotení
  • 3 nevyvážené magnetróny (2 fokusované) s DC a HiPIMS zdrojmi
  • Rotujúci držiak s ohrevom podložiek do 500 oC a pulzným predpätím do -1400 V
  • Reakčné naprašovanie (N2, C2H2, H2, O2a pod.)

 

PQL S500

  • HiTUS technológia naprašovania tenkých vrstiev a povlakov
  • 4 terče s priemerom 100 mm s RF zdrojom pre vodivé aj nevodivé materiály
  • Rotujúci držiak s ohrevom podložiek do 500 oC a RF predpätím do 500 W
  • Reakčné naprašovanie (N2, C2H2, H2, O2)
  • in situ meranie teploty podložky, rýchlosti naprašovania, zloženia zvyškových plynov a zloženia plazmy (optickou spektroskopiou)

 

Laserové zariadenie TRUMF model TruLaser Station 3003 so zdrojom TruFiber 400

Laserové zariadenie TRUMF model TruLaser Station 3003 so zdrojom TruFiber 400 umožňuje:

  •  Laser Scribing pre ovplyvňovanie veľkosti magnetických domén
  •  Laserové mikroštruktúrovanie povrchov materiálov
  •  Vytváranie vrstiev na kovoch a keramike (Laser Cladding/Sintering)
  •  Legovanie materiálov (Laser Alloying)
  •  Presné mikrozváranie/spájkovanie kovov/keramiky/plastov
  •  Presné mikrorezanie
  •  Presné značenie a gravírovanie materiálov pomocou lasera
  •  Kalenie/tepelné pôsobenie na povrchy materiálov

 

Komorové pece LAC s programovým regulátorom

  •  Elektrické odporové pece do Tmax.= 1280 °C pre tepelné spracovanie kovových aj nekovových materiálov
  •  Kalenie a popúšťanie zliatin na báze železa
  •  Dlhodobé termálne expozície
  •  Realizácia zložitých termálnych cyklov
  •  Výstup z regulátora do PC (záznam teploty v čase)

 

EIR-EMO2 – Elektroiskrový vyrezávací stroj

  • Štvorosová drôtová rezačka s veľkým rozsahom posuvov a s vysokou presnosťou polohovania
  • Dvojkontúrové rezanie obrobkov (rezanie rozličných tvarov v spodnej rovine X,Y a hornej rovine U,V)
  • Riadiaci softvér
  • Maximálna hmotnosť obrobku: 50 kg
  • Rozsah pohybu suportov X x Y x Z  380 x 270 x 120 mm

 

ESCO II BSC – Laminárny box

  • Laminárny box triedy II BSC pre vykonávanie sterilných pracovných činností

 

Memmert INCO153 – Inkubátor

  • CO2 inkubátor Memmert pre kultiváciu bunkových kultúr

 

Microm SA-260 MA sterilizátor

  • Automatický autoklávový sterilizátor pre sterilizáciu vzoriek a laboratórnych pomôcok

 

Hettich Mikro 220 RCentrifúga

  • Centrifúga na separáciu chemických a biologických zmesí

 

Príprava preparátov pre materiálové analýzy

Metalografická brúska a leštička Phoenix 4000

Zariadenie slúži na prípravu metalografických výbrusov pre svetelnú mikroskópiu a predprípravu vzoriek pre skenovaciu a transmisnú elektrónovú mikroskópiu.

 

Elektrolytická leštička LectroPol-5

Zariadenie pre elektrolytické leštenie a leptanie metalografických vzoriek materiálov (napr. pre SEM a EBSD analýzy), ktoré sú odolné voči bežne používaným chemickým leptadlám.

 

Iónová rezačka 682 PECS

Prístroj je určený pre rezanie, leptanie a povlakovanie vzoriek pomocou iónového lúča. Zariadenie sa používa na prípravu vzoriek pre elektrónovú mikroskópiu napr. na nanášanie rôznych vodivých prvkov na povrch vzoriek určených pre SEM, TEM a EBSD analýzy.

 

Lyofilizátor ilShin

  • Lyofilizátor ilShin s výparníkom do -50 °C
  • Sušenie za zníženého tlaku 5 mTorr
  • Lyofilizácia biomateriálov príp. biologických preparátov, netoxických práškových materiálov

 

Elektrónové mikroskopy

SEM/FIB – CrossBeam systém AURIGA Compact

SEM/FIB kombinovaný „dual beam“ mikroskop určený na precízne štruktúrne a chemické analýzy, 2D, 3D zobrazovanie vo vysokom rozlíšení (sekundárne elektróny, spätne odrazené elektróny, 3D energiovo-disperzná analýza, In-lens duo a STEM detektor) a na mikro/nanoobrábanie. Vhodné pre dvoj- a troj-rozmerné zobrazovanie a analýza vodivých i nevodivých materiálov s použitím lokálneho kompenzátora náboja, pre prípravu ultratenkých lamiel (<50 nm) pre pozorovanie v TEM (aj z miest, ktoré sú pre iné metódy nedostupné- indentácie, opotrebenie, pre prípravu vodivých i nevodivých nanoštruktúr (< 20 nm) cestou depozície z plynnej fázy, mletie, bombardovanie, iónové leptanie materiálov, Iónová litografia a analýza priečnych rezov a štruktúrnych rozhraní materiálov na stanovenie odolnosti  voči opotrebeniu, korózii, či oxidácii, meranie hrúbky vrstiev, analýza chýb v materiáli a príprava mikroútvarov (pilierov) pre následné nanomechanické skúšanie.

  • SEM (rastrovacia elektrónová mikroskopia)
  • Rozlíšenie 0,9 nm pri 30 kV (STEM mód), 2,5 nm pri 1 kV
  • Zväčšenie 12x-900 000x
  • FIB (fokusovaný zväzok iónov)
  • Rozlíšenie 5 nm (30 kV, 1 pA)
  • Zväčšenie 600x – 500 000x

 

SEM EVO MA15 – Environmentálny Rastrovací elektrónový mikroskop

Environmentálny rastrovací elektrónový mikroskop s integrovanými analytickými metódami EDX a WDX.  Vybavený W vláknom s rozšíreným  rozsahom  pracovných  tlakov  a s integrovanými   analytickými   metódami   na pozorovanie  a výskum  mikroštruktúry,  topografie  a  chemického zloženia  širokého  spektra materiálov,  od  masívnych  kovov  až  po moderné  kompozitné,  nanokompozitné  a  biologické materiály a povlaky s rozšírenými možnosťami analýzy ľahkých prvkov.

  • W vlákno
  • SE a BSE detektory pre prácu pri zvýšenom tlaku
  • Rozsah pracovných tlakov v komore v rozsahu do 400 Pa
  • 5-osový motorizovaný stolík
  • Veľká komora
  • Bezolejové vákuum

 

SEM Jeol JSM 7000F – Rastrovací elektrónový mikroskop

Rastrovacia elektrónová mikroskopia (SEM) poskytuje informácie o mikroštruktúre, morfológii, o chemickom a fázovom zložení skúmaných objektov aj pod 1 mikrometer. Kombinácia rastrovacieho elektrónového mikroskopu Jeol JSM 7000F s analytickými jednotkami EDX a EBSD Oxford Instruments poskytuje unikátne informácie o materiáli až pri 100 000-násobnom zväčšení.

  • Rozlíšenie: 1,0 nm(15 kV), 1,4 nm(1 kV)
  • Zväčšenie: od ×25 do ×1,000,000
  • Napätie: od 0,1 kV do 30 kV
  • Detektory: EDS, EBSD

 

TEM JEOL JEM-2100F UHR – Transmisný elektrónový mikroskop

Moderný transmisný elektrónový mikroskop určený na ultra vysoké rozlíšenie so špičkovými analytickými možnosťami. Výkon mikroskopu umožňuje pozorovania až na úrovni atomárneho rozlíšenia vo svetlom aj tmavom poli. Prístrojové vybavenie laboratória umožňuje analýzu materiálov v reálnom aj recipročnom priestore využitím elektrónového žiarenia rôznych energii. Dôraz sa kladie aj na spracovanie a analýzu získaných dát, predovšetkým z elektrónovej difrakcie.

  • Bodové rozlíšenie 0,19 nm
  • Objektív s koeficientom sférickej vady 0,5 mm
  • FEG katóda Schottkyho typu
  • STEM detektor pre svetlé pole
  • STEM detektor pre tmavé pole/HAADF režim
  • EDS detektor Oxford instruments X-MAX 80 mm2
  • Digitálna kamera Gatan Orius SC1000A
  • Držiak sveľkým náklonom +/-60°JEOL
  • Držiaky s rotáciou vzorky JEOL
  • Elektromagnetické tienenie ETS-LINDGREN EMFC-MK IV

 

Svetelné mikroskopy

Nikon ECLIPSE-LVDIA – automatický motorizovaný optický mikroskop

Pozorovanie a analýza pevných a kvapalných materiálov a bio-preparátov v odrazenom svetle, prechádzajúcom svetle a fluorescenčnom zobrazení.

  • Pozorovacie metódy: odrazené a prechádzajúce svetlo, svetlé pole, tmavé pole, fluorescencia, polarizované svetlo, diferenciálny interferenčný kontrast
  • Optické zväčšenie 50, 100, 200, 500 a 1500x
  • CCD kamera DS-Ri1 chladená peltierovým článkom, maximálne rozlíšenie 4076 x 3116 pixelov, prevodník 12-bit, expozičný čas 1/1000-600 sek.
  • Automatický programovateľný posuv v smere XY a Z
  • Automatické zaostrovanie, automatické spájanie sérií obrazov
  • 3D rekonštrukcia obrazu spájaním Z-rezov metódou Nikon EDF (Extended Depth of Focus)
  • Meranie a analýza obrazu programom NIS-elements

 

Nikon MA200 – invertovaný metalografický mikroskop

  • Pozorovacie metódy: odrazené svetlo, svetlé pole, tmavé pole, polarizované svetlo, diferenciálny interferenčný kontrast
  • Optické zväčšenie 50, 100, 200, 500 a 1000x
  • CCD kamera DS-Fi2 maximálne rozlíšenie 2560 x 1920 pixelov, prevodník 8-bit, expozičný čas 1/13000-60 sek.
  • Manuálne ovládanie XY a Z posuvu a zaostrovania

 

Nikon SMZ18 – svetelný stereomikroskop

Makro pozorovanie a dokumentácia vzoriek s nerovným povrchom ako sú  trhliny, lomové povrchy, korózne poškodenie, opotrebenie, práškové materiály, elektronické obvody a súčiastky.

  • Rozsah priblíženia 0,75-13,5x
  • Plynulé zväčšenie 3,75-135x
  • Segmentované prstencové LED osvetlenie s plynulým riadením intenzity svetla
  • CCD kamera DS-Fi2 maximálne rozlíšenie 2560 x 1920 pixelov, prevodník 8-bit, expozičný čas 1/13000-60 sek.
  • Automatické zaostrovanie a rekonštrukcia 3D obrazu (Nikon EDF)

 

Svetelný mikroskop s vysokoteplotnou komorou Linkam TS 1400XY

  • Analýza spekateľnosti materiálov
  • Analýza transformácií materiálov v procese ohrevu a ochladzovania
  • Maximálna pracovná teplota komory je 1400 ºC
  • Rýchlosť ohrevu do 200 ºC/min
  • Rýchlosť chladenia 240 ºC/min.
  • Digitálna kamera umožňuje ukladanie jednotlivých snímkov, alebo videozáznamu procesu

 

Stemi 2000 C – stereomikroskop

Stereomikroskop na rýchle pozorovanie povrchov v rozsahu zväčšení od 0,65 – 50 x s CCD kamerou a ohniskovou vzdialenosťou do 92 mm.

 

Axio Observer 1M – invertovaný optický mikroskop

Moderný svetelný mikroskop s rozsahom zväčšení 25x – 1000x pre prácu v svetlom poli, tmavom poli, v polarizovanom svetle a v režime diferenciálneho interferenčného kontrastu.

 

Neox Plu – konfokálny mikroskop/optický profilometer

Profilometer pre pozorovanie a meranie členitých povrchov v rozsahu zväčšení 50 – 1500 x s výborným rozlíšením v osi Z vhodný na rýchle nekontaktné meranie drsnosti povrchov (bodová, čiarová, plošná analýza) a priečnych profilov (napr. získaných zo stôp po skúškach opotrebenia, vrypových skúškach, indentačných skúškach), vrátane hrúbky tenkých vrstiev.

  • Duálne osvetlenie s bielym aj krátkovlným monochromatickým svetlom
  • Automatické prepínanie medzi konfokálnym a interferometrickým módom len výmenou objektívu a prepnutím softwaru
  • Vertikálne rozlíšenie v režime PSI  <0,02 nm
  • Odchýlka od linearity pri vertikálnom skenovaní v rozsahu do 50 ɥm < 60 nm
  • Vertikálne rozlíšenie v režime VSI <1,5 nm
  • Rýchlosť snímania v konfokálnom režime> 10 frame/s
  • Interferometrické objektívy so zväčšením v rozsahu od 2,5x do 100x
  • Konfokálne objektívy so zväčšením v rozsahu od 5x do 150x
  • Optické pozorovanie povrchu v svetlom poli v reálnych farbách
  • Motorizovaný a piezo-posun v osi Z a motorizovaný XY stolík
  • Manuálny priečny a pozdĺžny náklon stolíka
  • Software na automatické mapovanie a skladanie obrazov zo zadaných plôch a na vyhodnocovanie topografických parametrov povrchu

 

XploRA – Ramanovský mikroskop

Výskumný disperzný Ramanovský mikroskop s  tromi excitačnými lasermi s rôznou vlnovou dĺžkou, automaticky prepínateľnými mriežkami spektrografu, spektrálnym rozlíšením lepším ako 3,4 cm-1, rýchlym a  presným automatizovaným mapovaním a vyhodnocovacím softwarom kombinovaný s optickým mikroskopom umožňujúcim pozorovanie v svetlom a tmavom poli.

  • Automatické prepínanie medzi lasermi a ich automatická kalibrácia
  • Automatické nastavenie konfokálnej apertúry
  • Spektrálne rozlíšenie pri mriežke 2400 vrypov/mm a vlnovej dĺžke lasera 532 nm minimálne 3,4cm-1
  • Rozsah vlnových čísel pri mriežke 2400 vrypov/mm a vlnovej dĺžke lasera  532 nm od 200 do 3000 cm-1
  • 4 automaticky prepínateľné mriežky spektrografu
  • Automatické mapovanie s dobou snímania 1 bodu pod 100 ms/bod
  • Krok XY stolíka menší ako 0,5 um
  • Software na vyhodnocovanie so základnou databázou na identifikáciu spektier
  • Objektívy optického mikroskopu so zväčšením 10x, 50x a 100x
  • Farebná CCD kamera s min. 1 mil. pixelov

 

Olympus GX 71 – svetelný metalografický mikroskop

Digitálny svetelný mikroskop Olympus GX 71 (s kamerou), s maximálnym 2000-násobným  zväčšením. Svetelná mikroskópia je využívaná na základnú analýzu mikroštruktúry materiálov s možnosťou pozorovania v režimoch: svetlé pole, tmavé pole, polarizované svetlo a Nomarski kontrast.

 

Leica DM IL LED – biologický svetelný mikroskop

Invertovaný svetelný optický mikroskop s fluorescenčnou funkciou pre pozorovanie štruktúry biomateriálov a bunkových kultúr.

 

RTG difrakčné analyzátory

Philips X`Pert Pro – analytický difraktometer

Difraktometer Philips X’Pert Pro MPD s ultra rýchlym detektorom X’Celerator ako aj s možnosťou merania pomocou scintilačného detektora. Možnosti merania v Bragg-Brentano geometrii v rôznych variáciách: q-q; w-q.  Zariadenie umožňuje analyzovať fázové zloženie (kryštalografické charakteristiky) látok, zastúpenie prítomných fáz v materiáli, veľkosť kryštalitov a makro/mikronapätí (meranie zvyškových napätí metódou sin2y). Umožňuje aj realizáciu in-situ experimentov pomocou vysokoteplotnej komory HTK16.

 

Termické analýzy

Diferenčný skenovací kalorimeter Perkin Elmer DSC 8500

DSC 8500 výkon kompenzujúci diferenciálny skenovací kalorimeter najnovšej generácie. S ohľadom na typ materiálu sa stanovuje entalpia zmien, fázové premeny, tepelné kapacity tuhých a kvapalných látok, určujú sa teploty tavenia, sklenia, demagnetizácie, vyparovania, príp. sublimácie.

  •  Teplotný rozsah: od -180 °C do 750 °C
  •  Rýchlosť ohrevu: od 0,01 do 750 °C/min
  •  Rýchlosť chladenia: od 0,01 do 750 °C/min
  •  Teplotná presnosť± 0,05 °C
  •  Čas ochladenia z +100 °C na -100 °C pri chladiacom systéme CLN2: 80 s

 

Termický DTA-DSC-TG analyzátor série Jupiter STA 449-F1

Simultánny termický analyzátor pre stanovenie TG-DSC/DTA série Jupiter STA 449-F1 od firmy NETZSCH. Zariadenie určené pre analýzy fáz a kinetiky fázových premien v anizotermických podmienkach.

  •  Teplotný rozsah: od 25 °C do 1550 °C
  •  Rýchlosť ohrevu max. 50 K/min
  •  Rýchlosť ohrevu max. 1000 K/min
  •  Teplotné rozlíšenie 0,001 K
  •  Presnosť DSC entalpie  ± 2% (pre väčšinu materiálov)

 

Elektrické a magnetické merania

HP 4294A Impedančný analyzátor

  • Analýza komplexnej permitivity a permeability materiálov
  • Rozsah od 40 Hz do 110 MHz
  • Presnosť 0,08 %
  • Vstavané kalibračné a kompenzačné funkcie

 

Teraohmmeter Sefelec M1501P

DC meranie odporu práškových a kompaktných materiálov.

  • Teraohmmeter – rozsah merania od 3 kOhm do 2000 TOhm (meranie v tienenej komore)
  • Meracie napätie 1-1500 V
  • Presnosť 0,2 %
  • Rozsah picoampérmetra 0,0, pA – 20 mA
  • Kalibračný box Sefelec BEM24, 23 rezistorov od 5 kOhm do 100 TOhm s meraním teploty a vlhkosti
  • Multimeter 6 1/2 digit Keithley 2100 – rozsah 100 microOhm – 100 MOhm
  • Multimeter 7 1/2 digit Keithley 2010 – rozsah 1 microOhm – 100 MOhm

 

Watmeter Zimmer LMG500

  • Meranie wattových strát materiálov, feritových jadier, transformátorov, elektromotorov
  • Šírka frekvenčného pásma 0,05 Hz – 10 MHz
  • Presnosť 0,025 %
  • Dynamický merací rozsah 3 – 1000 V, 20 mA – 32 A
  • Digitálny osciloskop Rigol D1202CA – 200 MHz

 

DC meranie odporu Mitsubishi Loresta AX

  • 4 bodová metóda merania odporu
  • Meracie sondy s lineárnym usporiadaním kontaktov
  • Rozsah merania od 10 mOhm do 10 MOhm
  • Presnosť 0,5 %

 

Meranie koercitívnej sily DX-320

  • Meranie koercitívnej sily magneticky mäkkých materiálov
  • Rozsah merania 1 – 8000 A/m
  • Presnosť 2 %
  • Maximálne magnetické pole 30 kA/m

 

AFM Dimension ICON – Mikroskop atómových síl

Mikroskop atómových síl (AFM), alebo silový skenovací mikroskop (SFM) je vysokorozlišovací typ skenovacieho mikroskopu so snímačom s veľkosťou rozlíšenia v nanometrickej oblasti. To umožňuje veľmi presne rekonštruovať 3D reprezentatívny topografický pohľad skúmaného povrchu a skúmať mechanické, elektrické a magnetické vlastnosti materiálov. Meracie módy: Contact mode (also in fluids), Tapping mode (amplitude, phase imaging), Lateral Force Microscopy (LFM), Friction Force, Force Modulation, Magnetic FM, Electric FM, Surface Potential Detection, Dynamic modulation, Nanoindentation, Piezoresponse, Scanning Tunneling Microscopy, Peak Force QNM – quantitative nanomechanical mapping of material properties.

  • Motorizované zariadenie pohybujúce sa po osi XY
  • Vzorky s max. rádiusom 120 mm
  • Oblasť skenovania 100 x 100 μm
  • Nízka hlučnosť, krycie veko
  • Video: 508 – 4010x
  • Skener – zariadenie pohybujúce sa v troch smeroch

 

Spektrálne analyzátory

GD – Profiler 2 – optický emisný spektrometer

Spektrometer na operatívny výskum chemickej analýzy povrchu a objemu, ako aj na hĺbkovú profilovú prvkovú analýzu širokého spektra materiálov, od masívnych kovov až po moderné kompozitné, nanokompozitné a biologické materiály a povlaky. Zariadenie umožňuje rýchle, experimentálne jednoduché a ekonomicky nenáročné meranie kvalitatívneho a kvantitatívneho obsahu H, O, Cl, N, Nb, Cu, C, Zr, Ni, Co, P, S, Ti, Fe, Y, Mo, Ca, Al, La, V, Sr, Cr, W, Zn, B, Si, Mn, Hf, F a K v širokom spektre tuhých látok, ich zmien v procesoch oxidácie, korózie, vplyvov vlhkosti, tribologickom a inom opotrebení a pod. už od koncentrácií na úrovni niekoľko ppm pre potreby vývoja nových technológií a štúdia procesov ich prípravy a pri prevádzke.

  • Polychromátor 0,5 m
  • Monochromátor
  • Detektory pre 31 spektrálnych čiar
  • Generátor dusíka

 

IRAffinity-1 ShimadzuFTIR spektrofotometer

Jednolúčový FTIR spektrofotometer Shimadzu , rozsah 4000-400 cm-1 na analýzu tuhých látok  a kvapalných (nevodných) roztokov.

  • ATR ZnSe nástavec FTIR merania povrchových filmov
  • Kompletný vyhodnocovací softvér

 

UV 1800 Shimadzu – UVVIS spektrofotometer

  • UVVIS dvojlúčový spektrofotometer
  • Rozsah 1100-200 nm
  • Nástavec na mikrokyvety (70µL)
  • Meranie kinetiky reakcií a enzýmovej aktivity v teplotnej cele

 

HPLC/GPC systém

HPLC/GPC systém Watrex s RI a UVVIS detektormi (4 kanálový) a pracovnou stanicou Clarity na analýzu molekulovej hmotnosti a zloženia biopolymérnych systémov, proteínov, polysacharidov.

 

Analyzátor veľkosti častíc

Mastersizer 2000 E – laserový difrakčný analyzátor veľkosti častíc

  • Vzorkovanie – suchý podávač Scirocco 2000M s automatickou detekciou
  • Rozsah merania -0,02 – 2000 mikrometrov
  • Zdroj červeného svetla – hélium-neón laser
  • Zdroj modrého svetla – tuhofázový zdroj
  • Automatická kalibrácia a justácia optického systému
  • Detekčný systém červené svetlo – priamy rozptyl, bočný rozptyl, spätný rozptyl
  • Detekčný systém modré svetlo – širokouhlý priamy a spätný rozptyl

 

AccuPyc II 1340 – automatický plynový hustomer

Meranie hustoty rozdielovou plynovou pyknometriou poskytuje informáciu o skutočnej, absolútnej, skeletálnej a zdanlivej hustote pevných, práškových a kvapalných materiálov. Metodika je využiteľná na analýzu pri syntéze nových materiálov, kompaktizácii práškových materiálov, výrobe cielene pórovitých telies, povlakovaní a pod. Výpočet hustoty s využitím metódy nasycovania plynom má výrazne vyššiu presnosť a reprodukovateľnosť v porovnaní s tradičnou Archimedovou metódou využívajúcou nasycovanie vodou. Na pracovisku sú k dispozícií presné analytické váhy Precisa ES 225SM-DR s density-kit-om a softvérom pre meranie hustoty Archimedovou metódou.

  • Pracovné médium He (možnosť použitia Ar, N, CO2)
  • Vymeniteľné meracie cely s objemom 10; 3,5 a 1 ml
  • Vysoká presnosť merania ±0,02 % z nominálneho objemu meracej cely
  • Automatické opakované meranie
  • Automatické štatistické vyhodnotenie a reportovací systém

 

Mechanické skúšanie

Elektromechanický univerzálny skúšobný stroj Instron 5985

  •  Nízkoprofilová snímacia hlava sily, statická, kapacita: ±250 kN
  •  Pneumatické čeľustie kapacity 200kN,
  •  1930 mm vertikálny testovací priestor
  •  Max. hrúbka vzorky 40 mm, max. šírka vzorky 75 mm, max. priemer vzorky 50 mm
  •  Teplotná komora od -150 °C do +350 °C
  •  Dynamický prieťahomer: priame meranie predĺženia
  •  Spätnoväzbové riadenie stroja (ťahové, tlakové a únavové skúšky)
  •  Upínacia dĺžka prieťahomeru 12,5 mm s dráhou +/- 5 mm (+/-40% predĺženia vzorky),
  •  Teplotný rozsah použitia prieťahomeru: -80 °C do +200 °C

 

Elektromechanický skúšobný stroj TiraTest 2300

  •  Snímače sily do: 1 kN, 10 kN a 100 kN
  •  Univerzálny software pro testy materiálov umožňujúci automatický prenos dát
  •  Široký rozsah ťahových, tlakových, ohybových, odlupovacích, odtrhovacích a trecích aplikacíí
  •  Vyhovuje normám ČSN, DIN, EN, ISO, ASTM a iné priemyslové štandardné testovacie metódy
  •  Teplotná komora F1200 do 1000 °C
  •  Prieťahomer do pece MFHT5 Lo 10-50 mm

 

Makrotvrdomer Vickers  432SVD

  •  Tvrdomer pre meranie tvrdosti Vickers podle EN-ISO 6507 s digitálným odčítaním
  •  LCD zobrazenie, on-line štatistika
  •  Metódy: Vickers  & Knoop
  •  Zaťaženie: 0,3 – 0,5 – 1 – 3 – 5 – 10 – 20 – 30 kgf
  •  Presnosť podľaEN-ISO 6507, ASTM E384 a E92, a JIS
  •  Manuálne spracovanie obrazu a automatické vyhodnotenie vtlačku

 

WILSON-WOLPERT tvrdomer Tukon 1102

  •  Meranie tvrdosti Micro-Vickers podľa EN-ISO 6507 / ASTM E384
  •  Metódy: Vickers & Knoop
  •  Zaťaženie: 10, 25, 50, 100, 200, 300, 500, 1000 (2000) (gf)
  •  Štandardy: EN-ISO 6507, ASTM E384 & E92, and JIS
  •  Konverzia na: Brinell, Vickers, Rockwell
  •  Manuálne spracovanie obrazu vrátane možností automatického vyhodnocovania vtlačku
  •  Motorizovaný X-Y stolík riadeným softvérom

 

Univerzálny tvrdomer s max. zaťažením 250kg, model UH250

  •  Metódy: Brinell, Vickers, Rockwell, S-Rockwell, Knoop, HBT
  •  Vyhodnocovanie merania pomocou softwaru Wincontrol
  •  Meranie podľa noriem:ISO 6506, ISO 6507, ISO 6508, ISO 4545, ASTM E18, ASTM E92, ASTM E10 a JIS
  •  Zaťaženie: 1, 3, 5, 10, 15, 15.625, 20, 30, 31.25, 50, 60, 62.5, 100, 125, 150, 187.5, 250 kgf
  •  Vickers Test Procedures-HV 1, 2, 3, 5, 10, 20, 30, 50, 100
  •  Rockwell Test Procedures-A, B, C, D, E, F, G, H, K, L, M, P, R, S, V, Bm, Fm, 15 N, 30 N, 45 N, 15 T, 30 T, 45 T, 15 W, 30 W, 45 W, 15X,30X, 45X, 15Y, 30Y, 45Y, 30 TM, HMR 5/25
  •  Brinell Test Procedures-HB1: 1, 2.5, 5, 10, 30; HB2.5: 6.25, 15.625, 31.25, 62.5, 187.5; HB5: 25, 62.5, 125, 250; HB10: 100, 250

 

Nanoindentor Agilent G200

 

Prístroj pre realizáciu nanoindentačných meraní (meranie nanotvrdosti).

  •  Vysoká presnosť meraní
  •  Testovanie od 0,5 mN do 10 N
  •  Dynamická mechanická analýza
  •  Skenovanie hrotom
  •  Microscratch testing
  •  Testovanie do teplôt 500 °C

 

Mikro-nano indentor TTX NHT

  • Rôzne geometrie hrotov
  • Rozlíšenie zaťaženia 40 nN
  • Testovanie od 0,1 do 500 mN
  • Dynamická mechanická analýza
  • Indentačná únava a creep
  • Veľký rozsah zaťažovacích módov

 

Scratch tester BRUKER

  • Skúmanie mechanizmov poškodzovania povlakov pri opotrebení
  • Vrypová skúška do 200 N odolnosť – adhézia a stabilita ochranných povlakov

 

LECO LM700AT – automatický mikrotvrdomer

  • Zaťaženie: 10 g, 25 g, 50 g, 100 g, 200 g, 300 g, 500 g, 1000 g
  • Objektívy: 10x, 50x, 100x
  • Hrot: Diamantový indentor Vickers
  • Merací mikroskop: elektronický
  • Automatické nastavenie vyhodnotenia vpichov – prepočtová tabuľka HV

 

Rezonančný únavový skúšobný stroj Cracktronic

  •  Stolný model pre dynamické zaťaženie v ohybe
  •  Aplikáce: únavové skúšky, / S/N-diagramy; únavový rast trhlín / da/dN-krivky
  •  Max. hodnota momentu ohybu: 160 Nm
  •  Max. peak-peak hodnota momentu ohybu: 160 N (± 80 Nm)
  •  Max. statický moment : 100 Nm pozitívny moment
  •  Dynamický uhol: 2° (± 1°) nastaviteľný
  •  Frekvenčný rozsah: 70 – 250 Hz (v 6 krokoch)

 

Nanotribometer CSM NTR2

 

 

 

 

 

 

 

 

  • Extrémne presné merania pri zaťaženiach do 1 N
  • Kruhový a recipročný pohyb
  • Presné testy malých vzoriek, biomateriálov, polymérov

 

Vysokoteplotný tribometer CSM THT

  • pin/ball on disk
  • Zaťaženie do 10 N
  • Skúšky do teplôt 800 °C

 

Univerzálny tribometer Bruker UMT 3

  • Široký rozsah možných spôsobov expozície
  • Kruhový a recipročný pohyb
  • Skúšky za sucha i v kvapalinách (testy lubrikantov)
  • Testy ložísk – guľôčky, valčeky
  • Vyššie zaťaženia (5-1000 N)

 

Charpyho kladivo

  •  Dynamické skúšky rázom v ohybe
  •  Pre stanovenie nárazovej práce a hodnôt rázovej húževnatosti

 

Creepovacie stroje

  •  Ťahové skúšky tečenia (creepové skúšky) kovových materiálov pri konštantnom zaťažení
  •  Teplotný rozsah skúšok od 200 °C do 650 °C
  •  Rozsah počiatočných zaťažovacích napätí od cca. 50 MPa do 200 MPa
  •  Možnosť kontinuálneho merania creepovej deformácie LVDT snímačmi s presnosťou 1 μm
  •  Možnosť stanovenia creepovej životnosti (doby do lomu) a creepových plastických vlastností

 

Vysokoteplotná pec HTTF-2

Zariadenie na mechanické testovanie progresívnych keramických materiálov pri teplotách do 1500 °C pri zaťažení do 1 kN pri teplote do 1500 °C. Pec je vybavená kontinuálnym systémom zaťaženia pri vysokých teplotách.

  • Štvorbodový creep v ohybe, tlakový a indentačný creep do 1500 °C
  • Meranie vysokoteplotnej ohybovej pevnosti do 1500 °C
  • Meranie rastu trhliny pri zvýšenej teplote do 1500 °C
  • Meranie odolnosti voči tepelným šokom